1. TOP
  2. 新着情報
  3. 「SPIE. 『OPTICS+PHOTONICS, OPTICAL ENGINEERING+APPLICATIONS』」 講演のお知らせ

新着情報

2017.07.06オプティカル

「SPIE. 『OPTICS+PHOTONICS, OPTICAL ENGINEERING+APPLICATIONS』」 講演のお知らせ

(現地日付)8月6日(日)から8月10日(木)の5日間、当社は米国のサンディエゴで開催されます「SPIE. 『OPTICS+PHOTONICS, OPTICAL ENGINEERING+APPLICATIONS』」にて講演いたします。

講演詳細は下記の通りです。

Advances in Metrology for X-ray and EUV Optics Ⅶ

Monday 7 August / Session 5: Novel Instruments and Methods

<発表 1>

Fabrication and metrology of OSAKA MIRROR for synchrotron applications
Paper 10385-29
Time: 2:20 PM – 2:40 PM
Author(s): Yoshio Ichii, Hiromi Okada, Shinya Aono, Shinsaku Shiroma, Akihiko Ueda, Takashi Tsumura, JTEC Corp. (Japan)

<発表 2>

Development of measurement system for ellipsoidal mirrors
Paper 10385-30
Time: 2:40 PM – 3:00 PM
Author(s): Hiroki Nakamori, JTEC Corp. (Japan), Osaka Univ. (Japan); Yoshio Ichii, Hiromi Okada, Akihiko Ueda, Takashi Tsumura, JTEC Corp. (Japan); Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi, Osaka Univ. (Japan)

 

※ご不明な点や詳細については、メールアドレス< info@j-tec.co.jp >までお問合せ下さい。