（現地日付）8月6日（日）から8月10日（木）の5日間、当社は米国のサンディエゴで開催されます「SPIE. 『OPTICS+PHOTONICS, OPTICAL　ENGINEERING+APPLICATIONS』」にて講演いたします。

講演詳細は下記の通りです。

Advances in Metrology for X-ray and EUV Optics Ⅶ

Monday 7 August / Session 5: Novel Instruments and Methods

＜発表 1＞

Fabrication and metrology of OSAKA MIRROR for synchrotron applications
Paper 10385-29
Time: 2:20 PM – 2:40 PM
Author(s): Yoshio Ichii, Hiromi Okada, Shinya Aono, Shinsaku Shiroma, Akihiko Ueda, Takashi Tsumura, JTEC Corp. (Japan)

＜発表 2＞

Development of measurement system for ellipsoidal mirrors
Paper 10385-30
Time: 2:40 PM – 3:00 PM
Author(s): Hiroki Nakamori, JTEC Corp. (Japan), Osaka Univ. (Japan); Yoshio Ichii, Hiromi Okada, Akihiko Ueda, Takashi Tsumura, JTEC Corp. (Japan); Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi, Osaka Univ. (Japan)