2025年3月14日（金）から17日（月）に東京理科大学 野田キャンパスにて開催されます「2025年 第72回応用物理学会春季学術講演会」におきまして、下記の通りポスター講演を行うことをお知らせいたします。

・日時：2025年３月16日(日) 13:30-15:30
・場所：P会場
・セッション名：8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理
・講演番号：16p-P02-7
・タイトル：PCVM(Plasma Chemical Vaporization Machining)におけるプラズマ部ガス流れおよびバイアス電圧が表面粗さに与える影響
・発表者：田中 智之

▶　2025年 第72回応用物理学会春季学術講演会

Poster Presentation at “The 72nd JSAP Spring Meeting, 2025”

We are pleased to announce our poster presentation at the 72nd JSAP (Japan Society of Applied Physics) Spring Meeting, 2025, held from Mar. 14 to 17, 2025, at Noda Campus, Tokyo University of Science.

• Time and Date: 13:30 to 15:30, Mar. 16, 2025
• Venue: P Hall
• Session Name: 8.2 Plasma Deposition, Etching, and Surface Treatment
• Presentation Number: 16p-P02-7
• Title: Effect of Plasma Gas Flow and Bias Voltage on Surface Roughness in PCVM (Plasma Chemical Vaporization Machining)
• Presenter: Tomoyuki Tanaka

▶　“The 72nd JSAP (Japan Society of Applied Physics) Spring Meeting, 2025”

2025年第72屆應用物理學會春季學術研討會 海報發表通知

本公司將於2025年3月14日（星期五）至17日（星期一）在東京理科大學野田校區舉辦的「2025年第72屆應用物理學會春季學術研討會」上進行海報發表，特此通知。

• 日期：2025年3月16日（星期日）13:30-15:30
• 地點：P會場
• 分會名稱：8.2 等離子體鍍膜・蝕刻・表面處理
• 演講編號：16p-P02-7
• 標題：PCVM（Plasma Chemical Vaporization Machining）中等離子體氣流與偏置電壓對表面粗糙度的影響
• 發表者：田中智之

▶　2025年第72屆應用物理學會春季學術研討會官方網站