ジェイテックコーポレーションの高精度X線ミラーはEEM加工法により、設計形状に対して形状誤差がナノメートルオーダーで製作されます。従来の集光ミラーと比較して集光性能に優れており、回折限界の集光を実現するミラーとして高い評価を頂いております。全反射ミラー方式のため、ゾーンプレートやレンズに比べて色収差がなく高効率です。また、ワーキングディスタンスの自由度も高く、ユーザーの実験設備に合わせた任意の光学系の設計が可能となります。
ミラー形状の精度を表す指標としてPV(Peak to
Valley:最も高い箇所と最も低い箇所の高低差)があります。当社では最長1メートルのミラーをPV2nm以下の精度で製作できます。また平面ミラーだけでなく、楕円形状や円筒形状、球面、放物面、回転楕円など様々な自由曲面を製作することができます。これにより大型放射光施設で作り出される放射光特有の均一で強力なX線を、波面を保持したまま反射することが可能となります。
| 長さ | ≦ 1000mm |
| 表面形状 | 平面、円筒、球面、楕円、放物、双曲などの1次元形状回転楕円、回転放物などの回転体形状(2次元形状) |
| 材質 | シリコン、石英ガラス、低膨張ガラスなど |
| スロープエラー | < 0.05 urad RMS |
| 形状誤差 | < 1.0 nm (PV) (もしくは < 0.3 nm RMS) |
| 表面粗さ | < 0.1 nm RMS (評価領域 100 μm × 100 μm) |
| コーティング | Pt, Au, Rh, Pd, Ag, Ni, C, B4C, Crなど |